簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果：共1筆資料 檢索策略： "Chun-Hui Chung".ecommittee (精準) and ckeyword.raw="拋光效率指標"


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    拋光墊性能分析於淺溝槽隔離化學機械拋光製程研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 王詩堯   指導教授： 陳炤彰
    • 化學機械平坦化(Chemical Mechanical Planarization, CMP)目前已被廣泛應用於IC產業中，隨著近年來半導體線寬不斷縮減，CMP製程之穩定性與重現性不斷面臨挑戰。而在…
    • 點閱：262  下載：3 
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